| 内容 |
研究発表 |
| 巻 |
25巻2/3号2020年
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| Page |
105
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| 題名 |
逆浸透膜のナノスケールレベルの欠陥を簡易に修復する『ナノスケールバンドエイド』の開発
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| Title |
Plugging Nanoscale Imperfections in the Polyamide Active Layer of Thin-Film Composite Reverse Osmosis Membrane to Inhibit Advective Solute Transport |
| 著者 |
原田美冬1)，岡村正樹2)，新苗正和2)，鈴木祐麻3) |
| Authors |
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| 著者表記 |
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| 著者表記(英) |
Mifuyu Harada, Masaki Okamura, Masakazu Niinae and Tasuma Suzuki |
| 著者勤務先名 |
1)山口大学大学院創成科学研究科環境共生系専攻, 2)山口大学大学院創成科学研究科建設環境系専攻, 3)山口大学大学院創成科学研究科建設環境系専攻 / 山口大学ブルーエナジーセンター |
| Office name |
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| 著者所属名 |
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| キーワード |
逆浸透膜，ポリアミド活性層，ナノスケールレベルの欠陥，移流，ポリビニルアルコール |
| Key Words |
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| 概要 |
本研究の目的は，逆浸透膜(RO膜)に存在するナノスケールレベルの欠陥を簡易に修復し，透水性を低下することなく汚染物質の除去率を効果的に向上する「ナノスケールバンドエイド」を開発することである。少量のポリビニルアルコール(PVA)水溶液をろ過することでRO膜に存在する欠陥をPVA で塞ぎ，グルタルアルデヒドでPVAの安定化を行った。その結果，透水性を損なうことなく2.0MPa におけるNaClおよびローダミン-WTの透過量を約67% および約85%減らすことができた。また，欠陥を塞いだPVAは薬品洗浄に対しても安定であることが示された。 |
| Abstract |
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