学会誌「EICA」

[研究発表] 高い汚染物質除去率を示すRO/NF 膜の物理化学的特長

内容

ポリアミド系逆浸透膜およびナノろ過膜のポリアミド層は150nm 以下と非常に薄いため、そ
の物理化学的構造は明らかになっていない。本研究は、ラザフォード後方散乱分析法により、ポ
リアミドの元素組成、平均厚さ、表面粗さ、架橋度を測定し、これらの物理化学的情報と砒素酸
(H3AsO3)の除去率との関係を調べた。その結果、高い砒素酸除去率を示す膜は、ポリアミドの架
橋度が高いことがわかった。また、ポリアミド層の不均一性が砒素酸の除去率をコントロールし
ている重要な因子であることが示唆された。

巻

15巻2・3号2010年

Page

55

題名

高い汚染物質除去率を示すRO/NF 膜の物理化学的特長

Title

Physico-chemical Properties of RO/NF Membranes for High Pollutant Removal

著者

鈴木祐麻1)，David G. Cahill 2)，Jeffrey S. Moore 2)，Benito J. Mariñas 2)

Authors

著者表記

Author attribution

Tasuma Suzuki, David G. Cahill, Jeffrey S. Moore and Benito J. Mariñas

著者勤務先名

1)山口大学・イリノイ大学, 2)University of Illinois at Urbane-Champaign

Office name

著者所属名

キーワード

逆浸透膜, ナノろ過膜, 拡散, 架橋度, ポリアミドの不均一性

Key Words

概要

ポリアミド系逆浸透膜およびナノろ過膜のポリアミド層は150nm 以下と非常に薄いため、そ の物理化学的構造は明らかになっていない。本研究は、ラザフォード後方散乱分析法により、ポ リアミドの元素組成、平均厚さ、表面粗さ、架橋度を測定し、これらの物理化学的情報と砒素酸 (H3AsO3)の除去率との関係を調べた。その結果、高い砒素酸除去率を示す膜は、ポリアミドの架 橋度が高いことがわかった。また、ポリアミド層の不均一性が砒素酸の除去率をコントロールし ている重要な因子であることが示唆された。

Abstract